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Ushio : le Japonais qui fera décoller les EUV

par Etienne Henri
Ushio EUV

Nous avons vu hier que les UV extrêmes (EUV), s’ils sont désormais utilisés de manière commerciale pour une poignée de produits haut de gamme, ne sont toujours pas assez matures pour couvrir les besoins de l’ensemble de l’industrie électronique.

Les progrès accomplis en quelques mois restent impressionnants : lorsque Samsung et TSMC ont annoncé en 2017 leur intention de commencer à court terme une production basée sur les EUV, le concepteur des machines de production ASML a qualifié ces annonces “d’acte de désespoir”. A l’époque, le procédé de fabrication ne fonctionnait toujours pas en laboratoire – l’idée de l’utiliser de façon commerciale semblait totalement folle.

Depuis, les deux fondeurs ont réussi l’exploit de sortir des millions de puces gravées en 7nm. Certes les tarifs restent prohibitifs, certes les délais de fabrication ont tendance à s’allonger, mais, il n’en reste pas moins que les EUV sont désormais une réalité commerciale pour les processeurs les plus performants.

Le reste de l’industrie pourra adopter à son tour cette technologie en cas de baisse des coûts de production et de simplification des procédés de gravure.

Une entreprise japonaise, Ushio, a annoncé avoir développé un nouveau procédé qui réduira drastiquement les coûts de R&D. S’il tient ses promesses, il pourrait rendre la gravure en EUV accessible à tous les électroniciens – et assurer à Ushio des bénéfices colossaux pour les dix années à venir.

Ushio rend la vue aux industriels aveugles 

La gravure de puces électroniques en EUV se fait par procédé lithographique. Les fondeurs fabriquent des processeurs comme un photographe développe des photographies à partir d’un négatif.

En schématisant à l’extrême le procédé, créer un processeur revient à faire passer de la lumière au travers d’un masque avant d’éclairer des galettes de silicium sur lesquelles le tracé des transistors se trouve imprimé.

Bien sûr, dans ce jeu d’ombres chinoises à l’échelle nanométrique, tout devient compliqué. La source de lumière doit être extrêmement pure, d’une puissance suffisante et le masque d’excellente qualité.

Les questions de source lumineuse sont en passe d’être réglées par ASML, mais la question des masques de production reste entière.

masques de lithographie

Les masques de lithographie sont une spécialité de Ushio depuis plusieurs années. Source : USHIO.
Voir la
vidéo de démonstration.

Finesse nanométrique oblige, les industriels conçoivent aujourd’hui les masques à l’aveugle et doivent faire tourner les machines de production pour savoir s’ils ont des défauts. Imaginez un éditeur qui, pour relire un livre, serait contraint d’en imprimer des centaines avant chaque relecture : c’est la situation ubuesque dans laquelle se trouvent aujourd’hui les fabricants de puces en EUV.

Jusqu’ici, aucun industriel ne proposait de méthode économiquement viable pour tester les masques. Aucune entreprise n’était capable de produire des sources de lumière suffisamment précises et puissantes pour effectuer cette étape de vérification au-dehors de la chaîne de production.

C’est cette barrière technologique que vient de faire tomber Ushio. Grâce à son nouveau système basé sur l’utilisation de laser et la décharge de plasmas spéciaux, le Japonais permet aux fondeurs de visualiser les micro-défauts dans les masques et d’augmenter ainsi rapidement le rendement des machines de production.

Les EUV : des photons qui valent des milliards 

Cette innovation n’a rien d’anecdotique. Le marché de la lithographie par EUV est estimé à plus de 3,8 Mds$ à horizon 2026, et devrait connaître une croissance annualisée de 26 % sur la prochaine décennie.

Dès que le rendement de ces chaînes de production dépassera celui des techniques traditionnelles, les industriels migreront en masse vers cette nouvelle gravure, et Ushio sera aux premières loges pour en profiter. Il s’agit de la première entreprise en amont des fondeurs dans la chaîne de valeur à pouvoir, à l’instar d’ASML, se targuer d’être un passage obligé pour graver sous les 7nm de façon rentable.

Selon la direction, la gamme d’imagerie en EUV devrait être rentable dès le prochain exercice fiscal. Il ne restera ensuite plus qu’à en récolter les bénéfices, année après année.

Pour ne rien gâcher à ce tableau idyllique, l’action Ushio (TYO:6925) reste une valeur encore bien méconnue des investisseurs et peu chère malgré sa progression de +40 % depuis le début d’année.

Ushio graphe bourse

L’action d’Ushio (TYO:6925) est déjà dans une belle dynamique avec +40 % depuis le 1er janvier.

Elle s’échange actuellement 1 666 yens (13,86€) soit un PER de 19,63, ce qui est extrêmement bas pour une valeur technologique de croissance. En outre, elle sert à ses actionnaires un rendement de 3 %.

Nul doute que l’entreprise suscitera un intérêt encore plus prononcé lorsque son activité EUV commencera à dégager des bénéfices visibles dans le compte de résultats. Les investisseurs-suiveurs réaliseront alors que cette vénérable entreprise créée en 1964 est capable de valoriser son savoir-faire historique dans le domaine de l’éclairage dans des domaines des plus innovants.

De votre côté, vous serez déjà confortablement positionné sur le dossier et pourrez voir vos plus-values s’envoler ! Considérez cela comme mon cadeau de Noël !

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